안녕하세요 Etch 공정 담당하는 회사원입니다~

장비 Idle 상태에서 Dummy 이용하는데 과학적으로 왜 쓰는지 정확하게 이유를 알고싶습니다..

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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68755
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438 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 3551
437 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3490
436 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3458
435 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 3448
434 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3444
433 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3431
432 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3362
431 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3343
430 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 3332
429 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3330
428 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 3244
427 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 3243
426 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 3208
425 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 3170
424 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3167
423 CVD 공정에서의 self bias [1] 3153
422 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 3060
421 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 3013
420 Plasma etcher particle 원인 [1] 3008
419 RF matcher와 particle 관계 [2] 2975

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