Deposition 플라즈마 색 관찰

2018.05.08 14:21

우인범 조회 수:4260

안녕하세요, 반도체분야로 취업하려는 취업준비생입니다.


얼마전에 공정실습을 다녀왔었는데요. SiO2 를 PECVD로 증착하는 과정에서 플라즈마 관찰을 했었습니다. process gas로 N2O를 SiH4보다 많이 투입했음에도 불구하고 SiH4의 플라즈마 색이 관찰된 것에 대해서 이유를 분석해보라는 문제를 주셨습니다. 


당시에는 두 가스의 플라즈마 색이 갖는 파장이 합성됐을 때 푸리에와 관련해서 나온 현상이라고 이해했었는데, 다시생각해보니 정확한 정리가 잘 되지 않았습니다.


이 현상에 대해서 피드백을 받을 수 있을까요??

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76739
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20211
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68703
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92295
429 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3513
428 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3447
427 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 3443
426 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3415
425 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3409
424 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3384
423 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 3325
422 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3324
421 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3301
420 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3283
419 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 3205
418 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 3199
417 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 3185
416 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3165
415 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 3162
414 CVD 공정에서의 self bias [1] 3102
413 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 3052
412 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 2975
411 Plasma etcher particle 원인 [1] 2968
410 RF matcher와 particle 관계 [2] 2920

Boards


XE Login