Others PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [소수/친수성 조절 연구]

2021.06.09 04:59

Luis 조회 수:3638

안녕하세요 박사님

 

저는 미국 텍사스주에 있는 R&D회사에 근무하고있는 이성국이라고 합니다

PP와 PET 주성분으로 만든 원사에 플라즈마 처리한후 친수성과 접착성이 시간이지나면 없어진다고 알고 있습니다

영구하게 친수성과 접착성이 유지할수 있는 방법이 있는지요 ?

 

답변에 미리 감사드립니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [336] 108400
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 26572
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 63709
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 75421
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 109050
475 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [하전에 의한 전기장 형성 및 방전 시간] [1] 4440
474 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다 [고주파 플라즈마 반응 특성] [2] 4398
473 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [Standing wave 및 플라즈마 밀도 분포] [1] 4348
472 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [Self bias와 DC offset] [1] 4330
471 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [Breakdown 전기장, 아크 방전] [3] 4324
470 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [표면 하전 특성 및 chucking 불안정성] [1] 4313
469 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [Etch와 IEDF] [2] 4307
468 DC스퍼터링과 RF 스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [플라즈마 생성과 Sputtering] [2] 4287
467 Bias 관련 질문 드립니다. [Ion plasma frequency] [1] 4208
466 RF matcher와 particle 관계 [DC glow 방전, 플라즈마 임피던스] [2] 4167
465 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [Arc와 cleaning] [1] 4152
464 CVD 공정에서의 self bias [이차 전자 생성, 입사 이온 에너지 분포] [1] 4121
463 the lines of magnetic induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문 [Ideal MHD plasma의 magnetic flux conservation] [1] file 4120
462 ESC Cooling gas 관련 [ESC 온도 제어] [1] 4048
461 Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련 [Sheath 전위 형성] [3] 4009
460 방전에서의 재질 질문입니다. [방전과 전압] [1] 3851
459 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [Maxwallian EEDF] [2] 3850
458 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [Flow rate와 moral ratio, resident time] [1] 3846
457 코로나 방전의 속도에 관하여 [코로나 방전의 이해] [1] 3825
456 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [회로 모델 및 부품 impedance] [3] 3807
쓰기
태그

Boards

XE Login