안녕하세요 OLED 증착 전 Plasma 전처리 장비를 다루고 있는 엔지니어 입니다.

GAS 주입후 RF 제너레이터에서 파워를 인가할때 최초 반사파또한 공급파워의 80%이상반사되는 현상이 발생중입니다.

Load Tune 값은 크게 변하지 않는 상태이며 최초 공급시 1sec 정도반사파가 크게 나타나다가 빠르게 안정화 되고 있습니다.

이러한 문제의 원인이 어디에 있는지 공부를해서 찾는중인데 쉽지가 않네요 도움주실만한 것이 있을까 해서 여쭙습니다.

좋은 하루 되세요.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76694
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20152
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57159
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68681
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92219
407 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2888
406 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2869
405 VI sensor를 활용한 진단 방법 [2] 2867
404 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2812
403 임피던스 매칭회로 [1] file 2801
402 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 2760
401 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 2758
400 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 2732
399 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2727
398 PR wafer seasoning [1] 2699
397 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] 2684
396 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 2634
395 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2626
394 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 2580
393 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2575
392 질문있습니다. [1] 2569
391 Si Wafer Broken [2] 2504
» 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2491
389 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2466
388 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2439

Boards


XE Login