공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[182]
| 75020 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 18861 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 56340 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 66845 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 88306 |
319 |
Si Wafer Broken
[2] | 2122 |
318 |
Wafer particle 성분 분석
[1] | 2106 |
317 |
sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지
[1] | 2099 |
316 |
양극 코로나 방전에 대한 질문입니다.
[1] | 2078 |
315 |
플라즈마볼 제작시
[1] | 2072 |
314 |
CVD 공정에서의 self bias
[1] | 2062 |
313 |
Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련.
[1] | 2062 |
312 |
RPS를 이용한 SIO2 에칭
[1] | 2031 |
311 |
CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다
[1] | 1997 |
310 |
교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다.
[2] | 1964 |
309 |
PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성....
[1] | 1959 |
308 |
임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다.
[4] | 1903 |
307 |
플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다.
[1] | 1902 |
306 |
Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요?
[1] | 1874 |
305 |
etching에 관한 질문입니다.
[1] | 1860 |
304 |
CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계
[1] | 1854 |
303 |
가입인사드립니다.
[1] | 1845 |
302 |
chamber impedance
[1] | 1844 |
301 |
13.56MHz resonator 해석 관련 문의
[1] | 1841 |
300 |
플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다.
[1] | 1836 |