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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68003
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 90232
357 Si Wafer Broken [2] 2329
356 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2301
355 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 2284
354 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2244
353 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2223
352 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2219
351 Wafer particle 성분 분석 [1] 2217
350 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2199
349 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2182
348 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 2168
347 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2164
346 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2161
345 플라즈마볼 제작시 [1] file 2154
344 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2152
343 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 2130
342 etching에 관한 질문입니다. [1] 2119
341 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2113
340 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 2104
339 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2096
338 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2091
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