안녕하세요.

반도체업계 종사자인 이우림이라고 합니다

 

다름이 아니라 300mm wafer위에 파티클 오염 분석을 진행중인데요.

혹시 300mm wafer를 coupon이 아닌 full wafer 상태로 삽입하여 wafer위의 파티클 성분 분석이 가능한 장비를 보유한 연구소를 알고 계신지요?

향후 분석에 꼭 필요한데 해당 장비 보유한 연구소를 찾지 못하는 상황입니다.

혹은 장비 관련 정보라도 알려주시면 감사하겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] 103374
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24719
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61542
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73525
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105965
434 질문있습니다. [전자 에너지 분포함수 및 Maxwell 분포] [1] 2977
433 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [ESC 영역 온도 조절] [1] 2973
432 플라즈마 압력에 대하여 [Glow discharge와 light] [1] 2972
431 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [충돌 반응 및 전력 전달 모델] [1] 2966
430 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [Standing wave effect] [1] 2941
429 Load position관련 질문 드립니다. [Impedance matching] [1] 2941
428 PR wafer seasoning [Particle balance, seasoning] [1] 2941
427 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [대기압 플라즈마와 라디컬 생성] [1] 2925
426 DRY Etcher Alarm : He Flow 관점 문의 드립니다. [O ring 결합부 근처 leak detect] [1] 2924
425 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [Ionization collision 및 Effective ionization energy] [1] 2910
424 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [최적 정합 조건 및 정합 시간] [2] 2886
423 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다.(챔버쪽 임피던스 검출) [플라즈마 특성과 장비 임피던스] [1] file 2884
422 매칭시 Shunt와 Series 값 [RF 전원 전력 전달 및 Load/Tune 계산] [1] 2851
421 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAT <-> STAGE HEATER 간 GAP과 DEPO 막질의 THK와의 연관성…. [Plasma property와 process control] [1] 2844
420 RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다. [Ionization과 chucking] [1] 2831
419 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [Etch와 remote plasma] [1] 2829
418 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [플라즈마 dielectric property] [4] 2818
417 산소 양이온의 금속 전극 충돌 현상 [플라즈마 표면 반응] [1] 2816
416 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [Lorentz force와 magnetic confinement] [1] 2815
415 Dry etch 할 때 센터와 사이드 etch rate [Plasma diffusion과 distribution] [1] 2814

Boards


XE Login