ESC ESC Cooling gas 관련

2019.02.21 19:22

jake88 조회 수:3572

Etch공정에서 ESC Cooling gas로 He을 주로 사용하는데 열전도도가 좋고 불활성가스라는 이유로 많이 사용되는것으로 알고있습니다

비교적 원가가 저렴한 N2가스를 사용하는 경우도 있을까요? 열전도도 반응성이 N2또한 괜찮은것으로 알고있는데 혹시 문제가 있을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 77041
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20362
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57278
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68825
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92824
381 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 2294
380 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2290
379 etching에 관한 질문입니다. [1] 2282
378 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 2273
377 플라즈마볼 제작시 [1] file 2258
376 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2255
375 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 2252
374 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 2181
373 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] 2154
372 플라즈마 관련 기초지식 [1] 2152
371 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 2122
370 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 2118
369 LF Power에의한 Ion Bombardment [2] 2108
368 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] 2085
367 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2078
366 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 2042
365 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 2034
364 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 2029
363 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 2022
362 chamber impedance [1] 2022

Boards


XE Login