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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [Wave guide 및 matcher position 변화]
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wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [ER과 self bias]
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RF 전압과 압력의 영향? [DC glow 방전, Paschen's Law]
[1] | 2222 |
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RF FREUNCY와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [CCP와 ionization]
[1] | 2219 |
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N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [N2 Ionizer 이온 및 중성 입자 해석]
[1] | 2197 |
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ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [Excitation transfer 반응과 방사천이율]
[1] | 2181 |
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13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [Resonator의 matching]
[1] | 2152 |
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366 |
PECVD 증착에서 etching 관계 [PECVD 증착]
[1] | 2130 |
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유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [전기장 내 입자 거동]
[2] | 2121 |
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CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [Wafer bias와 chuck cap]
[1] | 2109 |
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ICP와 CCP에서의 Breakdown voltage [Breakdown과 E-H transition]
[1] | 2094 |
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EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [Plasma spectroscopy]
[1] | 2069 |
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CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [Plasma chemistry]
[3] | 2065 |
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Pecvd장비 공정 질문 [Dusty plasma와 벽면 particle 제어]
[1] | 2060 |
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공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다!
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가입인사드립니다.
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Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [Matcher와 Plasma Impedence]
[1] | 2040 |
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터보펌프 에러관련 [터보 펌프 구동 압력]
[1] | 2040 |
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355 |
압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [플라즈마 임피던스, 운전압력조절 방전 조건]
[1] | 2028 |
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354 |
PECVD와 RIE의 경계에 대해 [DC bias 형성 판단]
[1] | 2027 |
