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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68736
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92570
337 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] 1814
336 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1804
335 터보펌프 에러관련 [1] 1767
334 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1762
333 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1747
332 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1740
331 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1704
330 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1695
329 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1691
328 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1683
327 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1673
326 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1668
325 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1666
324 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1657
323 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1631
322 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1615
321 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1611
320 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1605
319 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1565
318 plasma 형성 관계 [1] 1535
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