안녕하세요 교수님. 항상 친절한 답변 감사드립니다.

 

회사를 다니면서 공부를 하다보니 제가 부족한 부분이 많아 자꾸 찾아뵙게 되네요.

 

현재 염근영 교수님의 '플라즈마 식각기술' 이라는 책을 공부하고 있는데요.

 

읽다보니 간단한것 같은데 이유를 모르겠는게 있어서 문의 드립니다.

 

Pressure가 공정에 미치는 영향 중에 압력이 낮아지면 rf voltage가 높아진다고 나와있는데 그 이유가 궁금합니다.

 

그리고 이 전압이라함은 플라즈마와 전극 사이의 전압을 말하는건가요?

 

제가 전기쪽으로는 지식이 많이 부족해서 헷갈립니다 ㅜㅜ 

 

감사합니다!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [255] 76398
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19983
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57064
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68534
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91249
313 터보펌프 에러관련 [1] 1722
312 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1690
311 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다.... [1] 1675
310 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1669
309 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1662
308 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1662
307 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1652
306 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1644
305 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 1642
304 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1625
303 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1608
302 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1583
301 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1575
» RF 전압과 압력의 영향? [1] 1571
299 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1558
298 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1556
297 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1549
296 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1531
295 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1523
294 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1508

Boards


XE Login