번호 제목 조회 수
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공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 59674
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 71480
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 99624
349 plasma 형성 관계 [Paschen's law, 플라즈마 주파수] [1] 1883
348 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [ICP match impedance] [1] 1878
347 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [DC bias 형성 판단] [1] 1866
346 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [Radio-Frequency Plasma] [1] 1866
345 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [Faraday shield] [1] 1861
344 N2, N2O Gas 사용시 Plasma 차이점 [N2 Plasma] [1] 1857
343 ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath] [1] 1855
342 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [Intensity 넓이 계산] [1] 1850
341 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [접촉 저항] [2] 1829
340 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [표면 화학 반응] [1] 1826
339 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [Breakdown과 impedance] [3] 1816
338 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [웨이퍼 bending] [1] file 1812
337 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술] [1] 1805
336 플라즈마 관련 교육 [플라즈마 교육자료] [1] 1767
335 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도] [1] 1751
334 charge effect에 대해 [Self bias 및 capacitively couple] [2] 1741
333 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance] [1] 1735
332 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [Physical sputtering과 cleaning] [1] 1724
331 데포 중 RF VDC DROP 현상 [부유 전극의 self bias 형성] [1] 1723
330 알고싶습니다 [Seasoning, 플라즈마 공정 및 부품 표면 특성 데이터] [1] 1723
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