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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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PECVD 증착에서 etching 관계 [PECVD 증착]
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342 |
plasma 형성 관계 [Paschen's law, 플라즈마 주파수]
[1] | 1706 |
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341 |
전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [웨이퍼 bending]
[1]  | 1703 |
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340 |
CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [Breakdown과 impedance]
[3] | 1701 |
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339 |
IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [접촉 저항]
[2] | 1692 |
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338 |
glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [고전압 방전 및 DBD]
[2] | 1691 |
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337 |
PECVD와 RIE의 경계에 대해 [DC bias 형성 판단]
[1] | 1661 |
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336 |
N2, N2O Gas 사용시 Plasma 차이점 [N2 Plasma]
[1] | 1656 |
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335 |
연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술]
[1] | 1642 |
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334 |
ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath]
[1] | 1629 |
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333 |
O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [Physical sputtering과 cleaning]
[1] | 1626 |
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332 |
charge effect에 대해 [Self bias 및 capacitively couple]
[2] | 1620 |
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331 |
OES 분석 관련해서 질문드립니다. [Intensity 넓이 계산]
[1] | 1610 |
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330 |
텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [표면 화학 반응]
[1] | 1605 |
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329 |
데포 중 RF VDC DROP 현상 [부유 전극의 self bias 형성]
[1] | 1600 |
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알고싶습니다 [Seasoning, 플라즈마 공정 및 부품 표면 특성 데이터]
[1] | 1584 |
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플라즈마 관련 교육 [플라즈마 교육자료]
[1] | 1570 |
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ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도]
[1] | 1557 |
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325 |
Impedence 위상관련 문의 [Circuit model, matching]
[1] | 1554 |
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ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의
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