CCP CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활

2016.12.15 13:35

4차원 조회 수:7658

안녕하세요?

제가 알기로는 CCP는 두 전극사이에서 플라즈마가 일어나는 것으로 알고 있는데, 만약 두 전극 사이에 유전체가 속해진다면, 이 유전체가 어떠한 역할을 하는지 알고 싶습니다. 

http://plasma.ee.pusan.ac.kr/xe/sou

위의 사이트에서 보니깐 CCP에 유전체가 원래 있는 것처럼 보이는데, 웹에서 다른 내용을 보면 유전체 이야기는 없는, 단지 두 개의 평행한 전극만 이야기하는 내용도 있어서 궁금해서 글을 올립니다.

감사합니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76870
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20273
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68751
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92694
317 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1540
316 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1536
315 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1531
314 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1521
313 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1520
312 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1507
311 charge effect에 대해 [2] 1475
310 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1469
309 알고싶습니다 [1] 1468
308 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1468
307 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1467
306 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1467
305 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1467
304 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1466
303 ICP lower power 와 RF bias [1] 1461
302 Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] 1457
301 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1453
300 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1446
299 Ar plasma power/time [1] 1441
298 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1438

Boards


XE Login