|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[313]
| 79430 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 21306 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 58107 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 69668 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 94529 |
|
324 |
RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다.
| 1549 |
|
323 |
rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [Byproduct와 gas flow, cleaning]
[1] | 1549 |
|
322 |
반도체 관련 플라즈마 실험 [Plasma experiment]
[1] | 1546 |
|
321 |
Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [플라즈마 내 전자 축적]
[1] | 1544 |
|
320 |
플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [플라즈마 토치에서의 Rotational temperature]
[1] | 1538 |
|
319 |
부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [라디컬의 화학반응성 및 DC 타깃 전극]
[1] | 1535 |
|
318 |
MATCHER 발열 문제 [Mathcer와 plasma impedance]
[3] | 1533 |
|
317 |
Plasma Cleaning 관련 문의 [Remote plasma source]
[1] | 1531 |
|
316 |
Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [Matcher의 알고리즘]
[1] | 1530 |
|
315 |
Ar plasma power/time [Self bias와 sputtering 효과]
[1] | 1523 |
|
314 |
강의를 들을 수 없는건가요? [플라즈마 진단 심포지움 및 PSES-net]
[2] | 1519 |
|
313 |
Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [Matcher와 dynamic impedance]
[1] | 1515 |
|
312 |
Plasma 발생영역에 관한 질문 [Plasma sheath의 형성과정]
[2] | 1510 |
|
311 |
접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경]
[1] | 1506 |
|
310 |
O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [Global model]
[1] | 1506 |
|
309 |
Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance]
[1] | 1495 |
|
308 |
poly식각을 위한 조언 부탁드립니다.
 | 1490 |
|
307 |
CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [챔버 벽면 성질 및 가스 손실]
[1] | 1488 |
|
306 |
Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [전자 소실 및 플라즈마 전위]
[3] | 1471 |
|
305 |
low pressure영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니다. [파센 커브와 글로우 방전]
[1] | 1468 |
