교수님 안녕하세요. 디스플레이 장비사에서 근무중인 회사원입니다.

 

좋은 내용 정말 감사합니다. 많이 배우고 있습니다.

 

PECVD의 챔버와 standing wave effect에 관한 질문입니다. 

 

챔버의 크기가 클수록 standing wave effect에 의해 챔버 내의 플라즈마가 불균일 하게 형성되어 불균일한 필름이 증착되는 것으로 알고있습니다.

 

'용량결합형 전극에서 가이드링에 의한 전기장 제어' 논문(http://doi.org/10.5370/KIEE.2019.68.11.1465)의 2.1 전기장 불균일도 원인 내용에서 'Wave는 전도체 표면을 따라 전극 아래 중앙부로 이동한다. 이 현상은 축대칭으로 인해 전극 중앙 하부에서 축방향 전기정은 radial 방향으로 미분 값이 0이 되어야 한다. 따라서 전극 아래 중앙부에서는 시간에 따른 전기장이 가장 크거나 가장 작다.'
라고 설명이 나와있습니다. 

 

제가 드리고 싶은 질문은 wave가 중앙부에서 가장 강한지 궁금합니다. 또한 중심부에서 가장 큰 전기장이 형성 되더라도 전기장 에너지가 플라즈마 내부에서 확산되기 때문에 챔버 전체적으로 동일한 플라즈마 밀도를 가져야 하는것 아닌지가 궁금합니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102814
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24682
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61404
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73469
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105813
313 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [Byproduct와 gas flow, cleaning] [1] 1734
312 low pressure영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니다. [파센 커브와 글로우 방전] [1] 1729
311 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [Global model] [1] 1709
310 Plasma 발생영역에 관한 질문 [Plasma sheath의 형성과정] [2] 1708
309 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [전자 소실 및 플라즈마 전위] [3] 1687
308 플라즈마 챔버 [화학반응 및 내열조건] [2] 1685
307 I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [전자전류의 해석] [1] 1675
306 강의를 들을 수 없는건가요? [플라즈마 진단 심포지움 및 PSES-net] [2] 1672
305 잔류시간 Residence Time에 대해 [표면 유속 정보, 유체해석 코드] [1] 1670
304 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1661
303 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요 [RF power와 power factor] [1] 1658
302 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 1646
301 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [O2 plasma, ion sputtering] [1] 1643
300 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [Plasma actuator와 DBD 방법] [3] 1641
299 전자 온도 구하기 [쉬스 전압, 스퍼터링 효과] [1] file 1634
298 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [Collisional sheath 정의] [1] 1625
297 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [플라즈마 전류량] [1] 1625
296 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [Remote plasma 이해] [1] 1623
295 RF Frequency 가변과 Forward Power의 상관관계 [임피던스 매칭] [2] 1622
294 dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [플라즈마 생성 반응] [1] file 1621

Boards


XE Login