안녕하세요

 

연세대학교 대학원 석사과정 조재규 입니다.

 

현재 DC Magnetron Sputtering시 Target Erosion Reduction에 관해서 연구하고있습니다.

Plasma 진단과 관련하여 어려움을 겪고 있어 질문 드립니다.

DC Magnetron Sputtering 사용시 플라즈마 분포가 비균일하게 형성되기 때문에 Target Erosion이 발생합니다

따라서 이를 분석하기위해 Plasma 형상을 정량화 하려는 방법을 구상하고 있고

가장 먼저 떠오른 방법은 Langmuir Probe였습니다.

하지만 Langmuir Probe는 워낙 국소부분 진단 방법이고 측정 위치를 다양하게 하기위해선 Sputter 장비에 설치 가능여부가 의문입니다.

 

이러한경우 어떠한 Plasma 진단법이 적합할지 여쭈어봅니다.

그리고 Langmuir Probe를 그대로 사용할 시 Tip이 있을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102692
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24672
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61385
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73454
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105780
273 공정플라즈마 [플라즈마 입자 거동 및 유체 방정식] [1] 1467
272 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [Plasma sheath, Stochastic heating] [1] 1461
271 anode sheath 질문드립니다. [Sheath 형성 메커니즘] [1] 1460
270 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [Chucking/dechucking 파티클 제어] [1] 1458
269 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [Chamber impedance] [2] 1458
268 RF 반사파와 이물과의 관계 [Physical/chemical cleaning] [1] 1456
267 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [DBD] [1] 1444
» DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [플라즈마 공간 분포 진단] [1] 1442
265 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [Self bias] [1] 1440
264 Vacuum chamber(Etching)내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계 [Plasma bulk Temp와 wall Temp] [2] 1440
263 sticking coefficient 관련 질문입니다. [HAR, LF bias] [1] 1434
262 대학원 진학 질문 있습니다. [전공 설계] [2] 1433
261 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [CCP 균일도, CCP edge] [1] 1429
260 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [Self bias] [1] 1413
259 Group Delay 문의드립니다. [마이크로파] [1] 1410
258 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [Global model과 Balance equation] [1] 1407
257 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [Self bias와 dummy 공정] [1] 1407
256 Decoupled Plasma 관련 질문입니다.[플라즈마 내 입자의 거동] [1] 1405
255 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [Ambipolar diffusion] [1] 1405
254 Plasma Arching [Plasma property] [1] 1402

Boards


XE Login