안녕하세요

회사에서 필터 연구를 하고 있는 김동규 라고 합니다.

궁금한점이 있는데요, 마땅히 물어볼만한 곳이 없어서 이곳에서 혹시나 도음을 얻을 수 있을까해서 문의 드립니다.

계측기에서 필터 특성 값 S21, S12 값을 뽑아 냈는데요

파일이 실수와 허수 값으로 나타나 있습니다.

예를 들면

1800MH에서 S21RE는 -0.0000926, S21IM은 0.0001257
1800.5MHz 에서 S21RE는 -0.0001249, S21IM은 0.0000956

이렇게 주파수 별로10Gz 까지 나열 되어있는데요

위 값만 가지고 계산으로 Group delay 값을 구할 수 있을까요?
(계측기에서 볼 수 있지만 엑셀 파일로 계산에서 보고 싶거든요)

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [311] 79151
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21231
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58043
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69590
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94350
» Group Delay 문의드립니다. [마이크로파] [1] 1217
261 Vacuum chamber(Etching)내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계 [Plasma bulk Temp와 wall Temp] [2] 1215
260 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [Chamber impedance] [2] 1201
259 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [Global model과 Balance equation] [1] 1200
258 DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [플라즈마 공간 분포 진단] [1] 1190
257 Plasma Arching [Plasma property] [1] 1185
256 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1185
255 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [Self bias] [1] 1180
254 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [Chucking/dechucking 파티클 제어] [1] 1174
253 자기 거울에 관하여 1174
252 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 식각기술, Plasma Etching] [3] 1162
251 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [Self bias와 dummy 공정] [1] 1154
250 sticking coefficient 관련 질문입니다. [HAR, LF bias] [1] 1133
249 CCP Plasma 해석 관련 문의 [Diffusion] [1] file 1133
248 고전압 방전 전기장 내 측정 [전극과 탐침과의 간격] [1] file 1131
247 Decoupled Plasma 관련 질문입니다.[플라즈마 내 입자의 거동] [1] 1126
246 anode sheath 질문드립니다. [Sheath 형성 메커니즘] [1] 1121
245 진학으로 고민이 있습니다. [복수전공] [2] 1109
244 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [Self bias] [1] 1108
243 Shield 및 housing은 ground와 floating중 어떤게 더 좋은지요 [장비 ground] [2] 1104

Boards


XE Login