Others Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다.
2020.06.08 18:29
안녕하십니까 교수님
공정 실습 중 Dechucking 이슈에 대해 궁금증이 있어 이렇게 글을 남깁니다.
제가 확인한 이슈는 dechucking 이후 핀업 진행 시 웨이퍼가 슬라이딩 하는 문제였는데, 해당 이슈에 대해 config값을 (0->5)변경하여 He flow가 되도록 조치했다는 것을 알았습니다.
chucking 과정중 He의 역할이 온도를 낮추는 역할 정도로 알고 있는데, He 가스가 chucking에서 어떤 역할들을 하는지 궁금합니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] | 78037 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20846 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57737 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 69253 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 93631 |
259 | Group Delay 문의드립니다. [1] | 1187 |
258 | Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] | 1181 |
257 | 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] | 1177 |
256 | 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. | 1163 |
255 | 자기 거울에 관하여 | 1158 |
254 | 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] | 1157 |
253 | DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] | 1144 |
252 | RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] | 1140 |
251 | Plasma Arching [1] | 1138 |
» | Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] | 1134 |
249 | Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] | 1130 |
248 | HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] | 1120 |
247 | Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] | 1099 |
246 |
고전압 방전 전기장 내 측정
[1] ![]() | 1096 |
245 |
CCP Plasma 해석 관련 문의
[1] ![]() | 1091 |
244 | Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] | 1084 |
243 | 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ | 1082 |
242 | 진학으로 고민이 있습니다. [2] | 1080 |
241 | DC Plasma 전자 방출 메커니즘 | 1074 |
240 | anode sheath 질문드립니다. [1] | 1072 |
성균관 대학교 김태성교수님 연구실로 문의하시면 좋은 답변을 구하실 수 있을 것 같습니다. chucking/dechucking에서 생성될 수 있는 파티클 제어까지 고려해야 할 것 같습니다.