Deposition 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다.
2021.01.18 21:55
안녕하십니까 현재, 증착관련 기업에서 인턴을 하고있는 김윤재 학생입니다.
Depostion에 관심이 많아서, 교수님의 질문방을 보며 공부(?)를 간혹하는 학생입니다.
현재, SiO2박막을 증착하며, 엘립소미터를 이용하여 굴절률과 증착두께를 측정하고 있습니다
그런데, Data를 측정하면 굴절률이 1.30/1.35/1.40/1.45 이런식으로 다양하게 나옵니다. 당연히, 증착두께도 굴절률에 따라 다르게 나옵니다.
SiO2의 굴절률이 1.46으로 알고있는데 굴절률이 다양하게 측정이 된다면, 여러 요인에 의해서 SiO2박막이 제대로 증착이 안된거 같습니다.
그런데, 이런 경우라면 Data를 기록할때 어떻게 기록해야하는 궁금합니다.
각 굴절률과 그에 따른 박막두께를 다 기록해야하는지.... 혹은 굴절률과 측정두께의 평균을 구해야 하는지 궁금합니다....
유의미한 data를 측정하고 싶은데 지식이 없는 학부생 질문이라 죄송합니다....
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] | 76539 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20076 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57115 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68613 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 91695 |
223 | Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] | 1072 |
222 | Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] | 1063 |
221 | 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] | 1062 |
220 | 고전압 방전 전기장 내 측정 [1] | 1058 |
219 | 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] | 1054 |
218 | RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] | 1045 |
217 | HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] | 1043 |
216 | Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] | 1040 |
215 | 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ | 1039 |
214 | 플라즈마 코팅 [1] | 1032 |
213 | DC Plasma 전자 방출 메커니즘 | 1028 |
212 | etch defect 관련 질문드립니다 [1] | 1026 |
211 | 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] | 1025 |
210 | 진학으로 고민이 있습니다. [2] | 1025 |
209 | Plasma Arching [1] | 1024 |
208 | Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] | 1017 |
207 | langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [1] | 1009 |
206 | DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] | 1007 |
205 | RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] | 1001 |
204 | 고진공 만드는방법. [1] | 1001 |
엘립소메트리 진단에 관해서는 한양대학교 나노광전자학과에 계시는 안일신교수님께 문의드려 보세요. 기구 동작에서 데이터 분석까지 전반에 대해 지도를 받을 수 있을 것 입니다.