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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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529 |
RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동
[1] | 24292 |
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528 |
dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐
[3] | 24192 |
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527 |
PECVD 매칭시 Reflect Power 증가
[2] | 24189 |
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526 |
esc란?
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525 |
스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다..
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524 |
ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의
[1] | 24042 |
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523 |
플라즈마 온도
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522 |
Reflrectance power가 너무 큽니다.
[1] | 23954 |
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521 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
 | 23295 |
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plasma and sheath, 플라즈마 크기
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519 |
Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제
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518 |
H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점...
[1] | 23064 |
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517 |
N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요
[2] | 22832 |
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516 |
CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.
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515 |
HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생
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514 |
안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
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513 |
Arcing
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512 |
DC glow discharge
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511 |
No. of antenna coil turns for ICP
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510 |
MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?
[3] | 22107 |
