번호 제목 조회 수
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 48660
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 50558
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 56136
529 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24292
528 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 24192
527 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] 24189
526 esc란? 24053
525 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 24047
524 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24042
523 플라즈마 온도 23976
522 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 23954
521 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 23295
520 plasma and sheath, 플라즈마 크기 23156
519 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 23082
518 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 23064
517 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 22832
516 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 22721
515 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 22720
514 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22481
513 Arcing 22418
512 DC glow discharge 22167
511 No. of antenna coil turns for ICP 22162
510 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22107

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