번호 제목 조회 수
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 48523
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 49162
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 54847
494 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 24000
493 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 23996
492 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 23893
491 esc란? 23597
490 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 23594
489 플라즈마 온도 23478
488 플라즈마를 이용한 오존 발생장치 23233
487 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 23115
486 plasma and sheath, 플라즈마 크기 23077
485 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 22953
484 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 22727
483 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 22674
482 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 22644
481 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22451
480 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 22438
479 Arcing 22345
478 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22079
477 pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] 22063
476 DC glow discharge 22041
475 [질문] Plasma density 측정 방법 [1] 22015

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