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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다..
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ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의
[1] | 23996 |
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Reflrectance power가 너무 큽니다.
[1] | 23893 |
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esc란?
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스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요?
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플라즈마 온도
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488 |
플라즈마를 이용한 오존 발생장치
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487 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
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plasma and sheath, 플라즈마 크기
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Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제
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484 |
N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요
[2] | 22727 |
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CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.
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482 |
HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생
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안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
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H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점...
[1] | 22438 |
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Arcing
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MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?
[3] | 22079 |
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pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련..
[1] | 22063 |
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DC glow discharge
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[질문] Plasma density 측정 방법
[1] | 22015 |
