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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68897
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765 플라즈마 온도 27840
764 DBD란 27774
763 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27667
762 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27234
761 이온과 라디칼의 농도 file 27053
760 self bias (rf 전압 강하) 26776
759 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26507
758 OES 원리에 대해 궁금합니다! [1] 26291
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755 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25593
754 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] 24996
753 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24913
752 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 24902
751 plasma와 arc의 차이는? 24839
750 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24787
749 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24785
748 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 24703
747 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24646
746 플라즈마가 불안정한대요.. 24531

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