공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[182]
| 75020 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 18861 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 56340 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 66845 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 88305 |
679 |
플라즈마 챔버 의 임피던스 관련
[2] | 27007 |
678 |
플라즈마 온도
| 26966 |
677 |
이온과 라디칼의 농도
| 26569 |
676 |
self bias (rf 전압 강하)
| 26352 |
675 |
공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제...
[2] | 26184 |
674 |
충돌단면적에 관하여
[2] | 25750 |
673 |
dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐
[3] | 25584 |
672 |
스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요?
| 25485 |
671 |
PECVD 매칭시 Reflect Power 증가
[2] | 24815 |
670 |
RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동
[1] | 24644 |
669 |
Reflrectance power가 너무 큽니다.
[1] | 24608 |
668 |
스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다..
| 24593 |
667 |
ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의
[1] | 24577 |
666 |
OES 원리에 대해 궁금합니다!
[1] | 24455 |
665 |
압력과 플라즈마 크기의 관계가 궁금합니다.
[1] | 24449 |
664 |
OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다.
[1] | 24447 |
663 |
H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점...
[1] | 24400 |
662 |
플라즈마가 불안정한대요..
| 24399 |
661 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
| 24215 |
660 |
플라즈마에 관해 질문 있습니다!!
| 24075 |