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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[266]
| 76681 |
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20152 |
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57152 |
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 68673 |
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
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747 |
플라즈마 온도
| 27771 |
746 |
DBD란
| 27716 |
745 |
플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항
| 27605 |
744 |
플라즈마 챔버 의 임피던스 관련
[2] | 27208 |
743 |
이온과 라디칼의 농도
| 26988 |
742 |
self bias (rf 전압 강하)
| 26700 |
741 |
공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제...
[2] | 26463 |
740 |
dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐
[3] | 26178 |
739 |
충돌단면적에 관하여
[2] | 26152 |
738 |
OES 원리에 대해 궁금합니다!
[1] | 26094 |
737 |
스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요?
| 25581 |
736 |
PECVD 매칭시 Reflect Power 증가
[2] | 24982 |
735 |
스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다..
| 24867 |
734 |
Reflrectance power가 너무 큽니다.
[1] | 24846 |
733 |
RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동
[1] | 24772 |
732 |
ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의
[1] | 24745 |
731 |
H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점...
[1] | 24641 |
730 |
plasma와 arc의 차이는?
| 24630 |
729 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
| 24558 |
728 |
플라즈마가 불안정한대요..
| 24512 |