안녕하십니까 교수님 항상 성심성의것 답변해 주신것 감사합니다.

 

저는 CCP plasma를 다루는 반도체 장비 회사를 다니고 있는 엔지니어 입니다.

 

다름이 아니라 여러가지 조건으로 Split test를 하는 와중에 샤워헤드와 척 사이의 갭을 늘렸더니 

 

플라즈마가 켜졌을 때 Matcher의 Vrms가 초반 몇 초 동안 급격히 상승하는 현상이 발생했습니다.

 

운이 없었다면 아킹이 발생하고 웨이퍼가 깨졌을 수도 있었던 상황이라 생각합니다.

 

 

이런 상황에서 pressure를 낮췄을 때는 Gap을 늘려도 상대적으로 안정해지는 경향이 파악 되었습니다.

 

왜 Gap이 커지면 불안정해지고, 여기서 Pressure를 낮추면 Gap이 커져도 상대적으로 안정해 지는 걸까요??

 

감사합니다~!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76739
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20207
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68703
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92291
119 플라즈마로 처리가 어떻게 가능한지 궁금합니다. [1] 16036
118 ICP TORCH의 냉각방법 15919
117 In-flight plasma process 15504
116 remote plasma 데미지 질문 [1] 14461
115 냉각수에 의한 Power Leak 14447
114 Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [1] 11332
113 Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이 [1] 10355
112 저온 플라즈마 장비에 관련하여 자문을 구합니다. 9843
111 수중 방전 관련 질문입니다. [1] 9666
110 대기압 플라즈마에 대해서 9636
109 수중플라즈마에 대해 [1] 8739
108 N2 환경에서의 코로나 방전을 통한 이온생성에 대한 질문입니다. [1] file 8618
107 Microwave 장비 관련 질문 [1] 8573
106 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [1] 8133
105 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7650
104 저온 플라즈마에 관해서 [1] 6648
103 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] 6410
102 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 6365
101 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 6001
100 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 4943

Boards


XE Login