안녕하세요?

플라즈마 응용연구실 인원 여러분

저는 성대 박사과정으로 있는 박형식이라고 합니다.

다름이 아니오라 제가 새벽에 실험 중에 갑작스런 현상이 발생한 것에 대해 궁금한 것이 이렇게 질문을 하게 되었습니다.

제가 스퍼터에 대해 실험 중에 DC 파워를 인가하는 중에 DC 파워 디스플레이에 high impedance란 메시지가 떴습니다.

혹시 몰라 일단 DC 파워는 off 시킨 상태이구요.

원인이 정확히 무엇인지 알고 싶습니다.

기타 실험 조건들에 대해서는 아래 적어 놓겠습니다. 확인하시고 답변 주시면 감사하겠습니다.
--> 압력 : 0.5mtorr (Ar 10 sccm), 파워 500W, 온도  240oC, Tilt 각도 : 40 deg, 거리 가변 불가, 5rpm
타겟은 산화물 타겟이며 Al2O3 2wt.% doped ZnO 타겟입니다.
DC 파워는 피에스 플라즈마 SDC1024A 이고 파워 범위는 최대 2kW입니다.

혹 챔버 용량에 비해 가스량이 적으면 문제가 되는 것인지? 아니면 다른 문제인지..알고 싶습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [158] 72995
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17585
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55512
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65685
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86009
665 플라즈마 온도 26860
664 이온과 라디칼의 농도 file 26485
663 self bias (rf 전압 강하) 26246
662 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26094
661 충돌단면적에 관하여 [2] 25626
» 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25449
659 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 25444
658 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] 24732
657 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24595
656 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 24533
655 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24525
654 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24509
653 플라즈마가 불안정한대요.. 24364
652 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 24317
651 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24132
650 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! 24051
649 OES 원리에 대해 궁금합니다! [1] 24017
648 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 23835
647 plasma and sheath, 플라즈마 크기 23685
646 플라즈마 쉬스 23604

Boards


XE Login