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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [Self bias와 dummy 공정]
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Shield 및 housing은 ground와 floating중 어떤게 더 좋은지요 [장비 ground]
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대학원 진학 질문 있습니다. [전공 설계]
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Decoupled Plasma 관련 질문입니다.[플라즈마 내 입자의 거동]
[1] | 1488 |
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plasma 공정 중 색변화 [플라즈마 진단과 분광학]
[1] | 1486 |
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플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [Global model과 Balance equation]
[1] | 1486 |
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langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [Langmuir probe와 ground]
[1]  | 1482 |
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RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [Ground와 Clamp]
[1] | 1481 |
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Group Delay 문의드립니다. [마이크로파]
[1] | 1480 |
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쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [Ambipolar diffusion]
[1] | 1475 |
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PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어]
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플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [CCP 방전 원리]
[1] | 1474 |
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Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 식각기술, Plasma Etching]
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Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다. [VI Phase]
[1] | 1461 |
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Collisional mean free path 문의… [MFP와 평균값 개념]
[1] | 1438 |
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241 |
고전압 방전 전기장 내 측정 [전극과 탐침과의 간격]
[1] | 1418 |
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주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [ICP, CCP 플라즈마 heating]
[1] | 1414 |
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3-body recombination 관련 문의드립니다. [Energy 보존 및 momentum 보존]
[2] | 1405 |
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238 |
O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의
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237 |
Self bias 내용 질문입니다. [쉬스와 표면 전위]
[1] | 1393 |
