교수님 안녕하세요. 디스플레이 장비사에서 근무중인 회사원입니다.

 

좋은 내용 정말 감사합니다. 많이 배우고 있습니다.

 

PECVD의 챔버와 standing wave effect에 관한 질문입니다. 

 

챔버의 크기가 클수록 standing wave effect에 의해 챔버 내의 플라즈마가 불균일 하게 형성되어 불균일한 필름이 증착되는 것으로 알고있습니다.

 

'용량결합형 전극에서 가이드링에 의한 전기장 제어' 논문(http://doi.org/10.5370/KIEE.2019.68.11.1465)의 2.1 전기장 불균일도 원인 내용에서 'Wave는 전도체 표면을 따라 전극 아래 중앙부로 이동한다. 이 현상은 축대칭으로 인해 전극 중앙 하부에서 축방향 전기정은 radial 방향으로 미분 값이 0이 되어야 한다. 따라서 전극 아래 중앙부에서는 시간에 따른 전기장이 가장 크거나 가장 작다.'
라고 설명이 나와있습니다. 

 

제가 드리고 싶은 질문은 wave가 중앙부에서 가장 강한지 궁금합니다. 또한 중심부에서 가장 큰 전기장이 형성 되더라도 전기장 에너지가 플라즈마 내부에서 확산되기 때문에 챔버 전체적으로 동일한 플라즈마 밀도를 가져야 하는것 아닌지가 궁금합니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102851
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24688
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61413
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73478
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105829
253 RF 주파수에 따른 차이점 [이온 및 전자 주파수 선택] [1] 1396
252 CCP Plasma 해석 관련 문의 [Diffusion] [1] file 1387
251 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [Ground와 Clamp] [1] 1369
250 Shield 및 housing은 ground와 floating중 어떤게 더 좋은지요 [장비 ground] [2] 1368
249 langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [Langmuir probe와 ground] [1] file 1363
248 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 식각기술, Plasma Etching] [3] 1360
247 진학으로 고민이 있습니다. [복수전공] [2] 1341
246 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1339
245 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [CCP 방전 원리] [1] file 1332
244 Collisional mean free path 문의… [MFP와 평균값 개념] [1] 1331
243 plasma 공정 중 색변화 [플라즈마 진단과 분광학] [1] 1326
242 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [수소, Ar 단원자 진단] [1] 1316
241 고전압 방전 전기장 내 측정 [전극과 탐침과의 간격] [1] file 1316
240 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다. [VI Phase] [1] 1314
239 3-body recombination 관련 문의드립니다. [Energy 보존 및 momentum 보존] [2] 1312
238 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1298
237 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [Light flower bulb] [1] 1292
236 아래 382번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [Self bias와 capacitance] [1] 1284
235 Plasma에서 Coupled(결합)의 의미 [Power coupling과 breakdown] [1] 1283
234 고진공 만드는방법. [System material과 design] [1] 1274

Boards


XE Login