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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [임피던스 매칭]
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플라즈마 진단 OES 관련 질문 [OES와 atomic spectroscopy]
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234 |
전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [Light flower bulb]
[1] | 1377 |
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233 |
반도체 METAL ETCH시 CH4 GAS의 역할 [플라즈마 식각기술]
[1] | 1372 |
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아래 382번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [Self bias와 capacitance]
[1] | 1370 |
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고진공 만드는방법. [System material과 design]
[1] | 1360 |
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플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [세정 공정 개발]
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안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다.
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교수님 질문이 있습니다. [Child-Langmuir sheath]
[1] | 1352 |
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ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [국부 전기장 형성 및 edge 세정]
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상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [I-V characteristic 방전 커브]
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Plasma에서 Coupled(결합)의 의미 [Power coupling과 breakdown]
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PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [RF 전원과 matcher]
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자기 거울에 관하여
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O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation]
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플라즈마 코팅 [The Materials Science of Thin Films]
[1] | 1313 |
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ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [RF 접지 및 체결, 결합부분 교체]
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Arcing과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [Self bias와 DC glow 방전]
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218 |
ICP 장비 TCP Reflect 발생 간 조언 부탁드립니다.
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ICP/CCP 플라즈마 식각 공정 개발 [Plasma sheath 및 Plasma generation]
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