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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73554
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234 반도체 METAL ETCH시 CH4 GAS의 역할 [플라즈마 식각기술] [1] 1283
233 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [세정 공정 개발] [1] 1282
232 Self bias 내용 질문입니다. [쉬스와 표면 전위] [1] 1271
231 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [국부 전기장 형성 및 edge 세정] [1] 1257
230 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [ICP, CCP 플라즈마 heating] [1] 1253
229 PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어] [1] 1252
228 자기 거울에 관하여 1248
227 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [임피던스 매칭] [1] 1247
226 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [I-V characteristic 방전 커브] [2] 1245
225 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [오존발생기] [1] 1240
224 플라즈마 코팅 [The Materials Science of Thin Films] [1] 1240
223 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation] [1] 1230
222 RF tune position과 Vms의 관계가 궁금합니다. [Chamber component, Matcher] [1] 1229
221 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [Particle 관리] [1] 1225
220 O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] 1220
219 플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [Breakdown condition 및 Paschen's law] [1] 1218
218 교수님 질문이 있습니다. [Child-Langmuir sheath] [1] 1214
217 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [Atmostpheric pressure plasma jet] [1] 1211
216 Arcing과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [Self bias와 DC glow 방전] [1] 1210
215 RF MATCHING관련 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 Impedance와 matching 설계] [1] 1210

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