공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[332]
| 103047 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 24695 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 61464 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 73496 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 105883 |
233 |
Self bias 내용 질문입니다. [쉬스와 표면 전위]
[1] | 1265 |
232 |
플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [세정 공정 개발]
[1] | 1261 |
231 |
반도체 METAL ETCH시 CH4 GAS의 역할 [플라즈마 식각기술]
[1] | 1255 |
230 |
ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [국부 전기장 형성 및 edge 세정]
[1] | 1251 |
229 |
자기 거울에 관하여
| 1247 |
228 |
주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [ICP, CCP 플라즈마 heating]
[1] | 1243 |
227 |
상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [I-V characteristic 방전 커브]
[2] | 1242 |
226 |
플라즈마 코팅 [The Materials Science of Thin Films]
[1] | 1236 |
225 |
PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어]
[1] | 1235 |
224 |
플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [오존발생기]
[1] | 1235 |
223 |
Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [임피던스 매칭]
[1] | 1230 |
222 |
O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation]
[1] | 1224 |
221 |
RF tune position과 Vms의 관계가 궁금합니다. [Chamber component, Matcher]
[1] | 1224 |
220 |
플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [Breakdown condition 및 Paschen's law]
[1] | 1217 |
219 |
O2 Plasma 에칭 실험이요
[1] | 1215 |
218 |
Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [Particle 관리]
[1] | 1213 |
217 |
Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [Atmostpheric pressure plasma jet]
[1] | 1207 |
216 |
교수님 질문이 있습니다. [Child-Langmuir sheath]
[1] | 1205 |
215 |
RF MATCHING관련 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 Impedance와 matching 설계]
[1] | 1202 |
214 |
DC Plasma 전자 방출 메커니즘
| 1194 |