Process 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다
2020.08.20 13:11
안녕하세요
접착력 증가를 위한 플라즈마 처리를 하고 있습니다.
문제는 불소계필러가 들어간 이미드 필름을 에폭시에 붙이려하는데 잘되지 않아서
표면처리 후 접착력을 증가시켜 보려고합니다.
현재 Ar+H2 로 하고있고 접착력이 증가하긴 하지만 탁월한효과는 못보고있습니다.
혼합가스를 바꾸어보라는 말도있고 소스를 바꿔보라는 말도있던데
혼합가스 종류나 다른 방법이있을까요 ?
궁금합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76730 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20196 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57167 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68701 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92280 |
189 | RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] | 869 |
188 | 문의 드립니다. [1] | 868 |
187 | 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] | 868 |
186 | RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] | 862 |
185 | 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] | 856 |
184 | RF MATCHING 관련 교재 추천 부탁드립니다 [1] | 854 |
183 | PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [1] | 845 |
182 | 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] | 844 |
181 | RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] | 843 |
180 | 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] | 839 |
179 | ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] | 833 |
178 | 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] | 824 |
177 | Self bias 내용 질문입니다. [1] | 819 |
176 | RF 파워서플라이 매칭 문제 | 815 |
175 | 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] | 812 |
174 | ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] | 806 |
173 | 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [1] | 805 |
172 | DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] | 800 |
171 | Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] | 800 |
170 | 플라즈마 충격파 질문 [1] | 794 |