ICP ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다.

2022.02.17 17:59

김베컴 조회 수:539

현재 제조업 개발 엔지니어로 근무중인데 Dry Etch에 관한 이론적인 접근이 필요한것 같아서 질문드립니다.

 

현재 공정중 정전기에관한이슈가 커서 완화 방안에 대한 검토를 하고있습니다.

 

무기막(Sio2, SiNx) Etch를 진행하고있고, Gas는 CF4/O2 약 1:1비율로 사용하고있습니다.

 

1. Source , Bia Power 하향

  → Plasma 생성 및 전위차가 낮아져 정전기 발생 적어짐 기대(But Etch Time이 길어짐)

2. CF4 유량비 상향

  → O2가 Rich하면 정전기가 많이 발생한다고하는데 메커니즘을 잘 모르겠습니다

     (But CF4 상향시 이방성 Etch증가로 Taper 안좋아짐)

3. 압력에 대한영향성?

  → 이부분에 대해서는 영향성이 있는지 문의드립니다 상향을 하면 개선이 될수도있다고는 하는데..

4. 제전 Step추가? Etch 중간에 제전을 넣으면 효과가 있을는지 궁금합니다.

 

이론적으로 많이 부족합니다. 많은 도움 주시면 감사하겠습니다.

 

감사합니다.

 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [158] 72988
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17579
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55511
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65680
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85997
84 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 528
83 Plasma Arching [1] 526
82 라디컬의 재결합 방지 [1] 525
81 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 521
80 RF 파워서플라이 매칭 문제 518
79 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 517
78 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 510
77 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 509
76 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 507
75 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 502
74 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] 502
73 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 495
72 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] 489
71 활성이온 측정 방법 [1] 484
70 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 483
69 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] file 483
68 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] 481
67 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 472
66 Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] 471
65 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 470
쓰기
태그

Boards

XE Login