Etch etch defect 관련 질문드립니다

2022.04.28 18:19

르후앤 조회 수:404

1. etch 공정이 완료된 이후 가장자리에 다량의 defect가 발견되었는데 이때 원인을 분석하기 위한 방법이 무엇이 있을까요?

 

2. 또 1번의 defect를 줄이기 위한 방법이 무엇이 있을까요?

 

저 나름대로 공부를 해봤는데 다른분들 의견이 궁금해서 질문드립니다

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [111] 4879
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16220
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51248
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63742
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83502
57 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 411
56 라디컬의 재결합 방지 [1] 409
55 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] 405
» etch defect 관련 질문드립니다 [1] 404
53 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 401
52 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 399
51 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 396
50 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 391
49 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] 387
48 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 384
47 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 382
46 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 381
45 코로나 방전 처리 장비 문의드립니다. [1] 378
44 핵융합 질문 [1] 377
43 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] 372
42 (PAP)plasma absorption probe관련 질문 [1] 361
41 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 359
40 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... 359
39 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 357
38 glass에 air plasma 후 반응에 대해 질문이 있습니다. [1] 353

Boards


XE Login