안녕하세요. CCP TYPE의 Chamber에 관한 문의점이 있습니다.

 

CCP 방식의 Chamber에서 HF를 이용하여 Plasma를 생성할여 Deposition을 진행하는 공정의 경우 Wafer가 안착되는 Plate의 온도가 Shower Head 보다 일반적으로 높은 조건을 사용하게 됩니다.

이때 HF의 주파수를 기존의 2배로 변경하게되면 Plasma의 밀도가 증가할 것으로 생각되며 다양한 변화가 발생할 것으로 생각됩니다.

그럼 온도 측면에서 Shower Head에 열전달 변화가 발생할까요?

저압에서 진행하는 공정 특성상 Plasma 온도변화가 Shower Head에 미치는 영향은 미비할것으로 생각되는데 주파수 변화와 Plasma 온도와 관련된 논문을 찾을 수 없어서 문의드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] 103307
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24714
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61522
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73517
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105943
194 플라즈마 용어 질문드립니다. [Self bias] [1] 1092
193 플라즈마 충격파 질문 [플라즈마 생성에 의한 충격파 현상] [1] 1088
192 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [ECRiS] [2] 1086
191 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [플라즈마 표면 반응] [1] 1084
190 새집 증후군 없애는 플러스미- 플라즈마에 대해서 [광운대 플라즈마바이오연구센터] [1] 1081
189 remote plasma를 이용한 SiO2 ethching 질문드립니다. [식각률 self limit과 쉬스 에너지 변화] [1] 1079
188 Polymer Temp Etch [이온 입사 에너지] [1] 1077
187 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다. [플라즈마 확산 시간 및 표면 반응 시간 유지] [2] 1071
186 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [Breakdown 이해] [1] 1061
185 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [충돌 거리 및 Deposition] [1] 1060
184 Hollow Cahthode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [장치 setting과 전극재료] [1] file 1055
183 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [플라즈마 응용기술] [1] 1048
182 플라즈마 밀도와 라디칼 [플라즈마 충돌 반응] [1] 1047
181 RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [반응기 내벽 변동 및 벽면 불화 정도 판단] [1] 1041
180 RF magentron sputtering시 플라즈마 off 현상 [Sputter 문제] [1] 1038
179 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [Glow discharge process 이해] [1] 1033
178 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [단위 Chamber의 PM 이력] [1] 1027
177 RF 파워서플라이 매칭 문제 1022
176 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 1018
175 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 1017

Boards


XE Login