Shower head 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성

2022.09.26 19:29

나비제임스 조회 수:628

안녕하세요. CCP TYPE의 Chamber에 관한 문의점이 있습니다.

 

CCP 방식의 Chamber에서 HF를 이용하여 Plasma를 생성할여 Deposition을 진행하는 공정의 경우 Wafer가 안착되는 Plate의 온도가 Shower Head 보다 일반적으로 높은 조건을 사용하게 됩니다.

이때 HF의 주파수를 기존의 2배로 변경하게되면 Plasma의 밀도가 증가할 것으로 생각되며 다양한 변화가 발생할 것으로 생각됩니다.

그럼 온도 측면에서 Shower Head에 열전달 변화가 발생할까요?

저압에서 진행하는 공정 특성상 Plasma 온도변화가 Shower Head에 미치는 영향은 미비할것으로 생각되는데 주파수 변화와 Plasma 온도와 관련된 논문을 찾을 수 없어서 문의드립니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [272] 76805
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20240
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57185
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68736
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92560
152 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 716
151 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] 713
150 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 711
149 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] 711
148 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] 709
147 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 698
146 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 696
145 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 695
144 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 693
143 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 690
142 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 680
141 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 676
140 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 670
139 Polymer Temp Etch [1] 669
138 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 657
137 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] 651
136 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 636
135 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 636
» 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 628
133 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 621
쓰기
태그

Boards

XE Login