Etch 플라즈마 샘플 위치 헷갈림

2022.06.07 20:57

플라즈마왕초보 조회 수:291

안녕하세요.

현재, 플라즈마 장비를 이용하여 표면구조 처리를 하고자 하는 대학원생 조원희입니다.

 

다름이 아니라, 플라즈마를 주로 전공하는 과 가 아니기 때문에, 현재 연구실에 있는 플라즈마 샘플 위치에 헷갈림이 좀 있습니다.

오래전 저희 연구실에서는 O2와 Ar을 이용하여, 표면을 친수성으로 만들거나 고분자에 Ar/O2를 혼합하여 etching을 하였었는데, 경험 하신분들이 다 졸업을 하시는 바람에, 여기에 도움을 청하게 됐습니다. 

제가 궁금한 점은,

 

1. O2만을 이용하여 표면을 친수성으로 만들때의 표면 위치와

2. Ar을 이용하여 etching을 할때의 표면 위치가 

 

두 경우에 다른지가 궁금합니다.

 

타겟으로 하는 표면을 각각의 경우에, 챔버 내부의 RF Power와 Matching box가 연결되어 있는 부분에 두어야 하는지, 그 반대에 두어야 하는지 혹시 도와주실 분이 계신가요..?

 

참고로 샘플은 PDMS (고분자) 입니다. 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [101] 3645
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 15335
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 50574
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 62988
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 82075
29 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 323
28 크룩수의 음극선도 플라즈마의 현상인가요? [1] 323
27 입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate file 313
» 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 291
25 VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [1] 286
24 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 283
23 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 275
22 염소발생 전기분해 시 스파크 발생에 관해 질문드립니다. [1] file 275
21 KM 모델의 해석에 관한 질문 [1] 270
20 Fluoride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [1] 267
19 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 266
18 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 265
17 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 262
16 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 254
15 Co-relation between RF Forward power and Vpp [2] 252
14 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 249
13 doping type에 따른 ER 차이 [1] 229
12 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 186
11 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 186
10 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 160
쓰기
태그

Boards

XE Login