Plasma in general Co-relation between RF Forward power and Vpp
2022.04.27 17:35
Hello,
I am working on a ALD (Atomic layer deposition) product wherein we are processing multiple wafers in the single reactor.
When we supply RF power to one of the reactor (i.e. REACTOR 1), the other reactor (REACTOR 2) beside reactor 1 is showing high Vpp value. We are not supplying RF power to reactor 2. (Please note reactor 1 & reactor 2 share the gas flow volume and are not fully isolated)
Why would this be happening ?
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] | 78038 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20848 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57737 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 69253 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 93633 |
159 | Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] | 705 |
158 | 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] | 691 |
157 | Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] | 689 |
156 | analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] | 689 |
155 | ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] | 687 |
154 | PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [RF 전원과 matcher] [2] | 683 |
153 | RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] | 680 |
152 |
RF Sputtering Target Issue
[2] ![]() | 677 |
151 | PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어] [1] | 673 |
150 | OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] | 669 |
149 | Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] | 668 |
148 | 기판표면 번개모양 불량발생 [1] | 665 |
147 | OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] | 660 |
146 |
Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다.
[1] ![]() | 656 |
145 |
진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문
[1] ![]() | 652 |
144 | 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] | 651 |
143 | 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] | 633 |
142 | 플라즈마 기본 사양 문의 [1] | 633 |
141 | CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] | 631 |
140 |
Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동
[1] ![]() | 629 |
It seems to be an RF ground issue, and check it.