Plasma Source Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문)
2019.06.26 10:25
안녕하십니까.. 현재 반도체업계 종사중이며 Plasma 관련 일을 하고 있습니다.
다름이 아니오라 궁금한 점이 있어 이렇게 글을 올립니다.
Plasma에 의한 Gas 분해 및 치환 시 하기와 같은 예로
Zr[N(CH3)(C2H5)]4 ---->Zr + N + C + H (O2 Add)
-- Zr + O2 --->ZrO2
-- C + O2 -->CO2
-- N + N --> N2
-- 4H + O2 -->2H2O
반응하여 생성된다고 가정하였을 때
반도체 공정중에서 Plasma를 발생시켜 Source Gas 및 Add Gas를 반응시켰을 시
1. 생성되는 Powder 종류
2. 생성되는 Gas 종류
3. 항목 1~2에서 우선순위로 생성되는 Gas 및 Powder 종류
위 내용에 관련하여 조언 및 교육을 받고자 하오니 답변 부탁드리겠습니다.
이상입니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76728 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20191 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57167 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68700 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92278 |
129 | 플라즈마 기본 사양 문의 [1] | 615 |
128 | ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] | 615 |
127 | 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] | 609 |
126 | 기판표면 번개모양 불량발생 [1] | 609 |
125 | OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] | 605 |
124 | plasma 공정 중 색변화 [1] | 605 |
123 | 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] | 604 |
122 | N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] | 601 |
121 | RF Sputtering Target Issue [2] | 597 |
120 | 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] | 596 |
119 | Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] | 594 |
118 | 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] | 592 |
117 | 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] | 589 |
116 | OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] | 589 |
115 | 간단한 질문 몇개드립니다. [1] | 587 |
114 | Interlock 화면.mag overtemp의 의미 | 585 |
113 | Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] | 580 |
112 | 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] | 576 |
111 | CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] | 576 |
110 | 활성이온 측정 방법 [1] | 572 |
powder 문제는 성균관대학교 기계공학과 김태성교수님 혹은 교통대학교 김성룡 교수님께 문의드려 보시면 도움을 받을 수 있을 것 같습니다.