DC24V 를 분리된 2개의 전극에 가해, 플라즈마를 발생시키는 살균기를 개발하고 있습니다.

해답을 찾기가 너무 어렵워서요. 궁금한 것은,  

1) DC 전원 대신 AC 전원을 인가시켜 플라즈마를 발생시키려면 1000V 이상의 AC전원, 수십 kHz 의 고주파가 반드시 필요한지요?

2) 만약 1)과 같이 필요하다면 무슨 이유 때문인지요??

답변 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] 76830
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20251
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57192
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68743
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92582
136 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 621
135 plasma 공정 중 색변화 [1] 620
134 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 615
133 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 615
132 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 615
131 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] 613
130 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 612
129 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 608
128 RF Sputtering Target Issue [2] file 607
127 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 606
126 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 603
125 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 598
124 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] 597
123 Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] 595
122 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] file 593
121 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] 591
120 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 589
119 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] 587
118 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 585
117 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 581

Boards


XE Login