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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 75861
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 109765
155 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [Self bias] [1] 1012
154 skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해] [1] 1010
153 CCP RIE 플라즈마 밀도 [Global model, Plasma generation, Ionization collision] [1] 1004
152 Co-relation between RF Forward Power and Vpp [RF ground] [1] 979
151 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [Plasma torch와 cyanide] [2] 979
150 ESC 사용 공정에서 Dummy Wafer Chuck Force 에 대해서 궁급합니다 [1] 973
149 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 971
148 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [전자 가열 방법 및 생산성에 따른 구별] [1] 969
147 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [플라즈마 회로 설계] [2] 963
146 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [Druyvesteyn distribution 이해] [1] 960
145 RPC ClEAN시 THD 발생 [RF shield와 ground의 강화] [1] 957
144 ICP에서의 Self bias 효과 [DC offset voltage와 floating potential] [1] 956
143 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [UV energy] [1] 947
142 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [SiC 식각과 Ring 교체 주기 및 모니터링 방법] [1] 944
141 안녕하세요, RPS나 DEPOSITION 간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [플라즈마 충돌 반응] [1] 942
140 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [Plasma information과 monitoring] [1] file 929
139 프리쉬스에 관한 질문입니다. [Ambipolar diffusion 및 collisionless sheath] [1] 929
138 ICP 후 변색 질문 927
137 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의 드립니다. [플라즈마 분포와 확산] [1] 924
136 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [방전 기전] [1] 922
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