번호 제목 조회 수
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공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61392
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73462
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105801
153 CCP RIE 플라즈마 밀도 [Global model, Plasma generation, Ionization collision] [1] 906
152 RPC ClEAN시 THD 발생 [RF shield와 ground의 강화] [1] 904
151 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [UV energy] [1] 882
150 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [Self bias와 RIE] [1] 875
149 프리쉬스에 관한 질문입니다. [Ambipolar diffusion 및 collisionless sheath] [1] 875
148 ICP 후 변색 질문 874
147 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [전자 가열 방법 및 생산성에 따른 구별] [1] 871
146 Co-relation between RF Forward Power and Vpp [RF ground] [1] 871
145 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [Sheath 전기장 및 instability] [1] file 870
144 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [Plasma information과 monitoring] [1] file 868
143 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [Druyvesteyn distribution 이해] [1] 859
142 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [플라즈마 생성, Plasma collision reaction] [1] 856
141 전쉬스에 대한 간단한 질문 [Debye length 및 sheath 형성] [1] 853
140 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [플라즈마 회로 설계] [2] 848
139 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [SiC 식각과 Ring 교체 주기 및 모니터링 방법] [1] 847
138 plasma striation 관련 문의 [Plasma striation] [1] file 847
137 전공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [Ion beam source] [1] file 843
136 PEALD장비에 관해서 질문드리고 싶습니다. [장비 세정 및 관리 규칙] [1] 841
135 안녕하세요, RPS나 DEPOSITION 간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [플라즈마 충돌 반응] [1] 839
134 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [방전 기전] [1] 835
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