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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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CCP RIE 플라즈마 밀도 [Global model, Plasma generation, Ionization collision]
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RPC ClEAN시 THD 발생 [RF shield와 ground의 강화]
[1] | 904 |
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자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [UV energy]
[1] | 882 |
150 |
플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [Self bias와 RIE]
[1] | 877 |
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프리쉬스에 관한 질문입니다. [Ambipolar diffusion 및 collisionless sheath]
[1] | 875 |
148 |
ICP 후 변색 질문
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Co-relation between RF Forward Power and Vpp [RF ground]
[1] | 873 |
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플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [전자 가열 방법 및 생산성에 따른 구별]
[1] | 872 |
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Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [Sheath 전기장 및 instability]
[1] | 871 |
144 |
연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [Plasma information과 monitoring]
[1] | 870 |
143 |
Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [Druyvesteyn distribution 이해]
[1] | 859 |
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챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [플라즈마 생성, Plasma collision reaction]
[1] | 856 |
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전쉬스에 대한 간단한 질문 [Debye length 및 sheath 형성]
[1] | 854 |
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CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [플라즈마 회로 설계]
[2] | 848 |
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ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [SiC 식각과 Ring 교체 주기 및 모니터링 방법]
[1] | 848 |
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plasma striation 관련 문의 [Plasma striation]
[1] | 847 |
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전공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [Ion beam source]
[1] | 844 |
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PEALD장비에 관해서 질문드리고 싶습니다. [장비 세정 및 관리 규칙]
[1] | 842 |
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안녕하세요, RPS나 DEPOSITION 간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [플라즈마 충돌 반응]
[1] | 841 |
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ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [방전 기전]
[1] | 836 |