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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[337]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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핵융합 질문 [NFRI 국가핵융합 연구소]
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메틸기의 플라즈마 에칭반응 메커니즘 [공정 플라즈마]
[1] | 873 |
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114 |
ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias]
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조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [열플라즈마와 "플라즈마 금속학"]
[1] | 856 |
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AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제
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전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [핵융합 연구소]
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안녕하세요 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [E x B drift]
[1] | 844 |
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Floride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [Sputter setup 및 구동 원리]
[1] | 843 |
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108 |
VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [VPS]
[1] | 843 |
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107 |
Frequency에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [전자와 이온의 열운동 특성과 반응 거리]
[1] | 839 |
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106 |
플라즈마 기본 사양 문의 [형광등 동작 원리]
[1] | 836 |
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KM 모델의 해석에 관한 질문 [Self bias와 ambipolar diffusion]
[1] | 822 |
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CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고]
[1] | 821 |
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Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다.
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102 |
Bias인가 Cable 위치 관련 문의 [플라즈마 분포 관찰]
[1] | 813 |
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CURRENT PATH로 인한 아킹 [RF 접지 면접촉 개선]
[1] | 810 |
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스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [플라즈마 이온주입 연구실]
[1] | 808 |
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magnetic substrate와 플라즈마 거동 [대면 재료의 전기적 특성와 플라즈마 쉬스의 변화]
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HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking]
[1] | 804 |
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97 |
HF와 LF중 LF REFLECT POWER가 커지는 현상에 대해서 도움이 필요합니다.
[2] | 799 |