ICP ICP 플라즈마에 관해서

2004.06.19 15:58

관리자 조회 수:32020 추천:276

안녕하세요.

늘 이곳에 와서 질문-응답의 열띤 글들과 학회 방문기를 잘 읽었는데 모두 없어졌다니 너무 가슴이 아프네요.
예전에 있었던 내용인 것 같은데 최근 실험을 하다가 부딪히게 되어 질문을 드립니다. 그때 미리 보았으면 좋았을 텐데.

ICP 플라즈마를 발생시킴에 있어서 CCP mode 와 ICP mode 의 차이가 어떻게 다른 것인지요? CCP mode를 마치 흔히 사용하듯이 기판(평판 기판)에 바이어스를 걸어줄때 발생하는 플라즈마처럼 생각하면 되는지요?
그리고 또하나 Matching box 에서 capacitance 를 접지시킬때와 그렇지 않은 경우 어떻게 차이가 나는지요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76871
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20273
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68751
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92694
57 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 342
56 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [1] 327
55 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 324
54 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 324
53 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 322
52 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] file 320
51 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] 315
50 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 298
49 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [1] 281
48 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 281
47 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] 269
46 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] 267
45 플라즈마 밀도와 라디칼 [1] 266
44 Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] 259
43 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 254
42 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] 252
41 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 235
40 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 225
39 Cu migration 방지를 위한 스터디 [1] 219
38 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [1] 218

Boards


XE Login