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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 58774
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569 No. of antenna coil turns for ICP 22578
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565 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 22334
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562 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22243
561 [질문] Plasma density 측정 방법 [1] 22228
560 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [1] 22209
559 pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] 22198
558 고온플라즈마와 저온플라즈마 22116
557 Dry Etcher 에 대한 교재 [1] 22074
556 Peak RF Voltage의 의미 21899
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554 플라즈마 코팅에 관하여 21804
553 Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] 21768
552 플라즈마 온도 질문 + 충돌 단면적 21657
551 펄스바이어스 스퍼터링 답변 21615
550 Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 21592

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