|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[85]
| 2291 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 12765 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 49612 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 61083 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[2]
| 78326 |
|
599 |
광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요?
| 22812 |
|
598 |
Arcing
| 22812 |
|
597 |
No. of antenna coil turns for ICP
| 22689 |
|
596 |
DC glow discharge
| 22639 |
|
595 |
안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
| 22614 |
|
594 |
self Bias voltage
| 22583 |
|
593 |
입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP)
| 22433 |
|
592 |
[질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요.
[3] | 22430 |
|
591 |
고온플라즈마와 저온플라즈마
| 22417 |
|
590 |
MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?
[3] | 22295 |
|
589 |
[질문] Plasma density 측정 방법
[1] | 22291 |
|
588 |
floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점
[1] | 22279 |
|
587 |
plasma와 arc의 차이는?
| 22264 |
|
586 |
pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련..
[1] | 22244 |
|
585 |
Dry Etcher 에 대한 교재
[1] | 22205 |
|
584 |
플라즈마의 정의
| 22135 |
|
583 |
Peak RF Voltage의 의미
| 22029 |
|
582 |
Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계
[1] | 21922 |
|
581 |
플라즈마 코팅에 관하여
| 21853 |
|
580 |
플라즈마 온도 질문 + 충돌 단면적
| 21699 |
