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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[1]
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489 |
[질문] Plasma density 측정 방법
[1] | 22054 |
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488 |
floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점
[1] | 22053 |
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487 |
입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP)
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486 |
self Bias voltage
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485 |
[질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요.
[3] | 21832 |
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484 |
No. of antenna coil turns for ICP
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483 |
플라즈마 쉬스
| 21786 |
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482 |
Dry Etcher 에 대한 교재
[1] | 21751 |
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481 |
플라즈마 코팅에 관하여
| 21571 |
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480 |
플라즈마 온도 질문 + 충돌 단면적
| 21535 |
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479 |
펄스바이어스 스퍼터링 답변
| 21522 |
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478 |
manetically enhanced plasmas
| 21418 |
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477 |
고온플라즈마와 저온플라즈마
| 21410 |
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476 |
Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계
[1] | 21395 |
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475 |
Dry Etcher 내 reflect 현상
[2] | 21327 |
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474 |
플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다.
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473 |
플라즈마내의 전자 속도
[1] | 21271 |
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472 |
47th American Vacuum Society International Symposium 2000
 | 21261 |
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471 |
Peak RF Voltage의 의미
| 21236 |
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470 |
대기압플라즈마를 이용한 세정장치
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