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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[1]
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534 |
플라즈마 쉬스
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533 |
DC glow discharge
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532 |
입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP)
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531 |
MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?
[3] | 22176 |
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530 |
[질문] Plasma density 측정 방법
[1] | 22165 |
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529 |
pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련..
[1] | 22163 |
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528 |
floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점
[1] | 22138 |
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527 |
self Bias voltage
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526 |
[질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요.
[3] | 22082 |
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525 |
Dry Etcher 에 대한 교재
[1] | 21964 |
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524 |
고온플라즈마와 저온플라즈마
| 21861 |
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523 |
플라즈마 코팅에 관하여
| 21746 |
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522 |
Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계
[1] | 21637 |
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521 |
플라즈마 온도 질문 + 충돌 단면적
| 21601 |
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520 |
펄스바이어스 스퍼터링 답변
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519 |
Dry Etcher 내 reflect 현상
[2] | 21494 |
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518 |
Peak RF Voltage의 의미
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517 |
manetically enhanced plasmas
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516 |
plasma와 arc의 차이는?
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515 |
플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다.
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