|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 48660 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 50558 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[1]
| 56139 |
|
509 |
pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련..
[1] | 22099 |
|
508 |
입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP)
| 22096 |
|
507 |
[질문] Plasma density 측정 방법
[1] | 22083 |
|
506 |
floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점
[1] | 22073 |
|
505 |
플라즈마 쉬스
| 22020 |
|
504 |
[질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요.
[3] | 21933 |
|
503 |
self Bias voltage
| 21931 |
|
502 |
플라즈마가 불안정한대요..
| 21851 |
|
501 |
Dry Etcher 에 대한 교재
[1] | 21830 |
|
500 |
플라즈마 코팅에 관하여
| 21633 |
|
499 |
고온플라즈마와 저온플라즈마
| 21628 |
|
498 |
플라즈마 온도 질문 + 충돌 단면적
| 21557 |
|
497 |
펄스바이어스 스퍼터링 답변
| 21543 |
|
496 |
Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계
[1] | 21461 |
|
495 |
manetically enhanced plasmas
| 21426 |
|
494 |
Dry Etcher 내 reflect 현상
[2] | 21363 |
|
493 |
플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다.
| 21316 |
|
492 |
플라즈마내의 전자 속도
[1] | 21296 |
|
491 |
Peak RF Voltage의 의미
| 21269 |
|
490 |
47th American Vacuum Society International Symposium 2000
 | 21269 |
