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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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778 |
plasma와 arc의 차이는? [Arc의 temperature]
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777 |
스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요?
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776 |
N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [Cooling과 Etch rate]
[2] | 26108 |
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775 |
스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다..
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774 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
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773 |
remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다. [Remote plasma의 Radical]
[1] | 25663 |
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772 |
Arcing [아크의 종류와 발생 원인]
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771 |
플라즈마가 불안정한대요.. [압력과 전력 조절]
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770 |
Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [플라즈마 및 반응기 임피던스]
[1] | 25360 |
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769 |
Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제
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768 |
[질문] Plasma density 측정 방법 [Plasma property와 sputtering]
[1] | 25291 |
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767 |
pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련 [Pulse plasma와 trigger-in]
[1] | 25241 |
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766 |
self Bias voltage [Self bias와 mobility]
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765 |
질문있습니다 교수님 [Deposition]
[1] | 25056 |
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764 |
플라즈마 쉬스 [Sheath와 self bias]
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763 |
plasma and sheath, 플라즈마 크기
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762 |
Dry Etcher 에 대한 교재 [플라즈마 식각 기술]
[1] | 24830 |
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761 |
플라즈마에 관해 질문 있습니다!!
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760 |
floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [Ambipolar diffusion, Floating potential]
[2] | 24696 |
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759 |
MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [Impedance matching과 반사파 형성]
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