공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 219 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 48933 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 56151 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[1]
| 63560 |
534 |
플라즈마 쉬스
| 22377 |
533 |
DC glow discharge
| 22302 |
532 |
입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP)
| 22205 |
531 |
MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?
[3] | 22176 |
530 |
[질문] Plasma density 측정 방법
[1] | 22165 |
529 |
pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련..
[1] | 22163 |
528 |
floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점
[1] | 22138 |
527 |
self Bias voltage
| 22112 |
526 |
[질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요.
[3] | 22082 |
525 |
Dry Etcher 에 대한 교재
[1] | 21964 |
524 |
고온플라즈마와 저온플라즈마
| 21861 |
523 |
플라즈마 코팅에 관하여
| 21746 |
522 |
Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계
[1] | 21637 |
521 |
플라즈마 온도 질문 + 충돌 단면적
| 21601 |
520 |
펄스바이어스 스퍼터링 답변
| 21577 |
519 |
Dry Etcher 내 reflect 현상
[2] | 21494 |
518 |
Peak RF Voltage의 의미
| 21456 |
517 |
manetically enhanced plasmas
| 21447 |
516 |
plasma와 arc의 차이는?
| 21424 |
515 |
플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다.
| 21391 |