안녕하세요.

 

큐에스아이라는 회사의 coating field를 담당하는 우병화 사원이라고 합니다.

 

한가지더 의문점이 있어서 문의 드립니다.

 

현재 장비로는 ECR sputter, RF sputter 를 보유 하고 있습니다.

 

현재 저의 장비의 plasma density를 알고 싶은데 계측장비를 구입하기는 너무 액수가 큽니다.

 

간단히 자사에서 쉽게 계측할 수 있는 방법이 있는지에 대해서 여쭤보고 싶습니다.

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] 77206
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20464
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57360
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68900
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92945
746 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 24426
745 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 24387
744 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 24214
743 self Bias voltage 24133
742 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! 24127
741 plasma and sheath, 플라즈마 크기 24004
740 플라즈마 쉬스 23989
739 Arcing 23878
738 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23790
737 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. 23480
736 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23431
735 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23350
734 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23282
733 DC glow discharge 23281
732 고온플라즈마와 저온플라즈마 23193
731 No. of antenna coil turns for ICP 23133
730 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 23123
729 CCP/ICP , E/H mode 23112
728 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22957
727 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] 22862

Boards


XE Login