ESC ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의
2021.06.02 16:54
안녕하세요.
반도체 회사 설비 엔지니어로 관련 200mm conductor etcher 에서 ceramic esc 를 사용하고 있습니다.
해당 esc 를 운용하면서 공정 진행중 b-he flow error 증가하면서 error 가 발생하고 빈도가 잦아지면 교체를 하게 되는데
해당 esc 분리하여 외부 검증 요청시 표면에 polymer가 증착되어 chucking 을 떨어뜨린다고 합니다.
국내 major 회사에서도 동일한 문제가 있어서 ISD란 공정을 진행하여 polymer 제거를 하여 he error 를 개선한 이력이 있다고 하여
ISD 공정이 무엇인지..해당 공정 parameter 가 어떤것이지...가능하다면 recipe 를 어떻게 구성해야 하는지에 대한
referance 를 문의 드립니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76736 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20206 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57168 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68702 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92280 |
729 | ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] | 24337 |
728 | [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] | 24310 |
727 | Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 | 24173 |
726 | 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! | 24122 |
725 | self Bias voltage | 24034 |
724 | plasma and sheath, 플라즈마 크기 | 23973 |
723 | 플라즈마 쉬스 | 23934 |
722 | Arcing | 23804 |
721 | N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] | 23760 |
720 | 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. | 23442 |
719 | 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? | 23382 |
718 | HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 | 23332 |
717 | CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. | 23261 |
716 | DC glow discharge | 23246 |
715 | 고온플라즈마와 저온플라즈마 | 23126 |
714 | No. of antenna coil turns for ICP | 23096 |
713 | 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) | 23060 |
712 | CCP/ICP , E/H mode | 22979 |
711 | 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. | 22943 |
710 | floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] | 22852 |