개인정보 노출 주의 부탁드립니다.

2010.12.10 13:44

관리자 조회 수:57414 추천:86

1. 관련 : “공공기관의 개인정보보호에 관한 법률”, 중앙전산원-3921(2010.11.17)
2. 위 법률에서는 홈페이지의 구축∙운영하는 과정에서 개인정보가 노출 또는 유출 되지 않도록 관리적∙기술적인 안전성 확보를 강조하고 있습니다.
3. 또한, 개인정보 사고 발생 시 벌칙(최고 10년이하의 징역)과 양벌규정으로 처벌을 하도록 되어있어 개인정보와 관련 홈페이지 관리자의 세심한 주의와 관리가 필요합니다.
4. 최근 학내에서는 게시판 관리자의 관리소홀로 인한 홈페이지에 개인정보 노출 사고가 발생하는 등 지속적인 개인정보 관련 사고가 발생하고 있는바, 홈페이지를 운영하고 있는 전 기관은 개인정보가 홈페이지 게시판 및 서버에 존재하는지를 반드시 점검하여 삭제조치 바랍니다.

가. 대    상 : 학내에서 운영중인 홈페이지 전체  
나. 점검방법 : [붙임2] 참조 (미제출시 웹서비스가 차단될 수 있음)

5. 아울러, 향후 학내 전체 개인정보보호 계획 수립 시 규모산정 및 기초자료 활용을 위해 학내 홈페이지의 게시판 세부정보 조사를 병행하오니 적극적인 협조 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] 77301
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20496
» 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57414
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68946
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92988
30 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] 151
29 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] 149
28 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 148
27 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 141
26 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 137
25 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 131
24 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] 130
23 플라즈마 설비에 대한 질문 123
22 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [1] 115
21 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 104
20 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [1] 101
19 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] 99
18 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 93
17 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 91
16 PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. 89
15 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 89
14 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 83
13 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [1] 79
12 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [1] 75
11 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [1] 68

Boards


XE Login