안녕하세요, 반도체 제조 기업에서 근무하고 있는 서성범입니다.

 

정말 기본적인 질문이라 부끄럽습니다만 전류란 도대체 무엇인지 여쭤보고 싶습니다.

전류라는 개념이 단순하면 정말 단순하게 +에서 -로 흐른다고 약속한 개념이라고 이해하고 있었는데,

깊이 생각하고 파고들수록 헷갈리고 개념 정리가 잘 되질 않아 질문드립니다.

 

Q.  DC 플라즈마 환경 내에서 중성 기체가 양이온으로 이온화가 되고, 양이온이 음극판으로 이동해 부딪힌다면

해당 과정은 전류가 흐르는 것으로 보아야하나요?? 

 

제가 생각하는 바는 아래와 같습니다.

 

음극판에서 방출된 전자의 경우 다시 양극판으로 이동하며 루프를 형성할 수 있지만, 

양이온의 경우 양극판에서 방출된 것이 아닌 두 금속판 사이 공간에서 생성되었고 이후 음극판으로 부딪히면서 전자와 만나 중성화가 되기 때문에 전류 형성에 기여하지 않는다고 생각됩니다.

 

단순히 전위차가 생겼을 때 입자의 움직임으로 전기적 현상을 이해했고, 전류는 전자의 움직임으로 이해했습니다만,

양이온의 움직임에 따른 전류와 전자에 의한 전류를 각각 다르게 보아야 하는건지 개념이 혼란스러워 질문드립니다. 

참고할만한 자료가 있다면 알려주시면 감사드리겠습니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [300] 77773
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20735
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57654
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69151
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93425
37 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 179
36 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 178
35 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking] [1] 169
34 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [Sheath energy] [1] 167
33 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산] [1] 165
32 반사파에 의한 micro arc 질문 [VHF 전력 인가] [2] 161
31 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [Pachen's law 이해] [1] 160
30 Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator] [2] file 159
29 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [상압플라즈마 소스] [1] 159
28 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [RF Power] [1] 158
27 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해] [1] 154
26 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [Sheath uniformity 이해] [1] 141
25 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [Ar plasma chemical etching] [1] 139
24 플라즈마 설비에 대한 질문 134
23 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화] [1] 130
22 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포] [1] 123
21 PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. 123
20 플라즈마 사이즈 측정 방법 [플라즈마 분포 측정 및 산포 평가] [1] 119
19 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [RF 전원과 매칭] [1] 114
18 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [Base pressure 이해] [1] 107

Boards


XE Login