60 MHz pulse generator와 60 MHz matching box를 구입하여 pulse plasma 특성들 (EEDF, Vp, Te, etc..)을 Langmuir probe를 이용해 측정하려 합니다.  그런데 pulse plasma 측정 방법에 대해 아는 부분이 없습니다.  일반적인 cw plasma 측정과 달리 pulse plasma는 TTL signal이 필요하다고 하는데 TTL signal이 무엇인지 궁금합니다.
그리고 pulse 주기에 따라 이를 측정하기 위한 장치들이 필요하다면 무엇이 필요한지 알고 싶습니다.
time-resolved, time-dependent plasma의 차이도 궁금하구요...

저희 Langmuir probe는 Hiden 社이며 EPison controller를 이용하고 있습니다.

한번에 너무 많은 것을 물어봐서 죄송합니다만, 자세히 알고 싶습니다.

부탁드립니다.

(혹시 관련 manual 자료가 있으면 받을 수 있을까요?)

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] 103276
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24710
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61515
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73516
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105936
754 Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [플라즈마 및 반응기 임피던스] [1] 23265
753 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [Ambipolar diffusion, Floating potential] [2] 23106
752 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 23085
751 [질문] Plasma density 측정 방법 [Plasma property와 sputtering] [1] 22957
» pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련 [Pulse plasma와 trigger-in] [1] 22909
749 Peak RF Voltage의 의미 22856
748 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [Impedance matching과 반사파 형성] [3] 22826
747 Dry Etcher 에 대한 교재 [플라즈마 식각 기술] [1] 22812
746 질문있습니다 교수님 [Deposition] [1] 22712
745 Dry Etcher 내 reflect 현상 [Chuck 전압/전류 및 field breakdown] [2] 22547
744 플라즈마의 발생과 ICP 22335
743 플라즈마내의 전자 속도 [Self bias] [1] 22250
742 플라즈마 코팅 관하여 [PECVD와 화학물 코팅] 22221
741 플라즈마 온도 질문+충돌 단면적 [전자의 에너지에 따른 충돌반응] 22144
740 펄스바이어스 스퍼터링 답변 22085
739 스퍼터링시 시편 두께와 박막두께 [박막의 하전량 변화] [1] 22043
738 ccp-icp 21976
737 glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압 21933
736 F/S (Faraday Shield) file 21854
735 manetically enhanced plasmas 21776

Boards


XE Login