안녕하세요..

상압 플라즈마 관련 업체에서 근무중인 김형석이라고 합니다.

다름이 아니라, 저희가 RF 플라즈마를 이용한 세정 장비를 개발 중에 있습니다.

모듈을 방전시 외부에 온도 라벨을 붙여 테스트 한결과, 약 7분 정도 지났을때, 접지 전극 온도가 약70도 정도 였습니다.

그러나, 그 순간 접지 전극이 휘는 현상이 발생하였습니다.

접지 전극을 새것으로 바꾸어도 마찬기지 현상이 발생합니다.

제 생각으로는 플라즈마가 불균일 하여, 생긴 현상이라 생각됩니다.

이에 대한 좋은 가르침 주시면 감사하겠습니다.

저희 장비는 리모트 타입으로써, 상부 전극은 Ag Paste에 절연체로는 세라믹을 사용중이며,
하부 전극은 알루미늄 아노다이징(60um)를 사용 중입니다.
전원은 RF를 사용 중입니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] 103320
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24716
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61526
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73519
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105951
754 Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [플라즈마 및 반응기 임피던스] [1] 23266
753 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [Ambipolar diffusion, Floating potential] [2] 23107
752 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 23085
751 [질문] Plasma density 측정 방법 [Plasma property와 sputtering] [1] 22959
750 pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련 [Pulse plasma와 trigger-in] [1] 22910
749 Peak RF Voltage의 의미 22856
748 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [Impedance matching과 반사파 형성] [3] 22827
747 Dry Etcher 에 대한 교재 [플라즈마 식각 기술] [1] 22813
746 질문있습니다 교수님 [Deposition] [1] 22713
745 Dry Etcher 내 reflect 현상 [Chuck 전압/전류 및 field breakdown] [2] 22548
744 플라즈마의 발생과 ICP 22336
743 플라즈마내의 전자 속도 [Self bias] [1] 22250
742 플라즈마 코팅 관하여 [PECVD와 화학물 코팅] 22223
741 플라즈마 온도 질문+충돌 단면적 [전자의 에너지에 따른 충돌반응] 22144
740 펄스바이어스 스퍼터링 답변 22085
739 스퍼터링시 시편 두께와 박막두께 [박막의 하전량 변화] [1] 22043
738 ccp-icp 21978
737 glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압 21933
736 F/S (Faraday Shield) file 21854
735 manetically enhanced plasmas 21778

Boards


XE Login