Plasma in general 데포 중 RF VDC DROP 현상

2021.07.29 15:44

공효준 조회 수:1542

안녕하세요 반도체회사 장비 엔지니어입니다. 

박막 과정 데포 중 RF VDC가 드랍 되는 현상이 있습니다. GAS양, CH 내 PRESSURE, 등등 변하는 것이 없는데 왜 갑자기 DROP 되는 걸까요?

영향을 줄만한 인자가 어떤 것이 있을까요? 장비를 잘 쓰다가 갑자기 DROP이 일어나고 그 이후는 다시 올라 오지 않습니다 ㅠ

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 77035
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20354
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57276
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68822
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92822
178 플라즈마가 생기는 메커니즘에 대한 질문입니다. [1] 13070
177 [기초]CCP Type에서의 Self-Bias(-Vdc) + Vp (plasma potential) 관련 질문입니다. [1] 12776
176 플라즈마에 대해서 꼭알고 싶은거 있는데요.. 12366
175 플라즈마 살균 방식 [2] 11498
174 DC bias (Self bias) [3] 11326
173 플라즈마 PIC 질문드립니다. [1] 10388
172 Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다. [1] 9536
171 진공챔버내에서 플라즈마 발생 문의 [1] 9262
170 안녕하세요 교수님. [1] 9048
169 RF & DC sputtering에 대해 질문드립니다. [1] 9013
168 Sheath와 Darkspace에 대한 질문입니다. [1] 8936
167 ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [1] 8753
166 Lecture를 들을 수 없나요? [1] 8582
165 핵융합에 대하여 8564
164 플라즈마 발생 억제 문의 [1] 8128
163 MFP에 대해서.. [1] 7831
162 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] 6540
161 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] 6475
160 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 6457
159 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6420

Boards


XE Login